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    三星打造17nm LPV工藝:28nm+14nm二合一

      半導(dǎo)體工藝不只是尖端的7/5/3/2nm,因為還有很多芯片并不需要太先進的制程,它們往往不太復(fù)雜,但對成本非常敏感。

      今天,三星宣布推出全新的17LPV 17nm工藝,意為Low Power Value。

      其實,它就是28nm工藝的進化版,融合了28nm BEOL后端工序、14nm FEOL前端工序,也就是在28nm節(jié)點的基礎(chǔ)上,加入了14nm FinFET立體晶體管,只需不高的成本,就能享受后者的能效優(yōu)勢。

      三星稱,17nm LPV工藝相比傳統(tǒng)28nm,芯片面積可縮小43%,可以帶來39%的性能提升或者49%的能效提升。

      三星17nm LPV工藝的量產(chǎn)時間沒有說,但三星已經(jīng)宣布第一個服務(wù)對象是ISP圖像信號處理器,屬于三星自家的CMOS傳感器產(chǎn)品線。

      此外,三星還打造了14nm LPU工藝,意味Low Power Ultimate,但未透露詳情,可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL。

    三星打造17nm LPV工藝:28nm+14nm二合一

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